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少量未处理的灰尘微粒或者气体分子可能严重影响一些工艺流程。请想象一下污染的空气对半导体这种高度敏感的制造工艺流程可能产生什么样的危害。

在半导体生产中,前沿的生产技术需要洁净度很高的空气,而且这一洁净度要求还在不断提高。通常要求晶圆生产环境的灰尘粒径要小于25nm(2009年),目前这一粒径值还在减小,预计到2017年将减小到10nm。气载分子污染物(AMC)也是高级晶圆厂关注的问题。很多气载分子污染物(AMC)都被证实会影响产品良率。例如,酸性气体会腐蚀硬盘或晶圆,可凝性有机物的沉降和低浓度氨气的存在会影响生产操作。

洁净室的重心就是空气过滤设备,根据不同的洁净室类型,需要考虑使用不同的过滤设备。

凭借10年以上的微电子和半导体污染控制技术行业经验以及对“国际半导体科技进程”的参与,康斐尔完全能够提供最佳洁净空气解决方案,实现最先进的灰尘和AMC控制。

金麒麟在已通过ISO9000认证并严格控制生产环境的工厂内专门生产HEPA/ULPA过滤器。大规模的生产能力确保我们的产品能够随时满足世界各地的需求。


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污染物
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粉尘、 微细盐粒子
空气
造成光学镜片雾
洁净室HVAC系统的新风机组加化学过滤功能段,在FFU加化学滤网